集成电路布图设计专有权是芯片设计知识产权保护的核心形式之一。根据 2025 年修订的《集成电路布图设计保护条例》，布图设计专有权的保护范围以登记的复制件和图样为准，独创性声明用于解释其创新部分。修订后的条例引入惩罚性赔偿制度，对故意侵权且情节严重的行为，权利人可主张最高五倍于实际损失的赔偿，并强化诉前证据保全措施，显著提升了侵权成本。
集成电路布图设计专有权是芯片设计知识产权保护的核心形式之一。根据 2025 年修订的《集成电路布图设计保护条例》，布图设计专有权的保护范围以登记的复制件和图样为准，独创性声明用于解释其创新部分。修订后的条例引入惩罚性赔偿制度，对故意侵权且情节严重的行为，权利人可主张最高五倍于实际损失的赔偿，并强化诉前证据保全措施，显著提升了侵权成本。
一、申请主体要求
申请人需满足以下条件之一：
中国主体：中国自然人、法人或其他组织创作的布图设计；
外国主体：外国人创作的布图设计首次在中国境内投入商业利用，或其所属国与中国签订保护协议；
合作创作：多个主体合作创作的布图设计，需共同申请或按合同约定申请。
二、申请条件
独创性要求：布图设计需为创作者独立创作，且在创作时不属于行业公认的常规设计。
商业利用条件：若布图设计已投入商业利用，需在首次商业利用后2年内提出申请；若未投入商业利用，需在创作完成后15年内申请
三、申请材料
1、核心文件：
布图设计登记申请表：需填写申请人信息、布图设计名称、创作完成日期、商业利用情况等。
复制件或图样：纸件需放大至生产集成电路的 20 倍以上，电子版本需包含完整信息并注明数据格式。
样品：若已投入商业利用，需提交 4 件含有该布图设计的集成电路样品，置于专用器具中并附表格。
保密信息处理：若申请包含保密信息（不超过总面积 50%），需单独提交保密图层的复制件或图样，并注明页码及总页数。
2、其他文件：
委托代理机构的需提交委托书。
若存在优先权，需提交优先权证明文件。
四、审查与登记流程
1、初步审查：
国家知识产权局对申请文件进行形式审查，若存在缺陷会发出补正通知书，申请人需在指定期限内补正。
审查周期通常为 6-8 个月，具体以实际公告时间为准。
2、登记与公告：
审查通过后，国家知识产权局予以登记并颁发证书，同时在官方网站公告。
布图设计专有权自申请日或首次商业利用日起保护 10 年，以较早者为准。
五、5大常见驳回原因及规避策略
1、图样不完整：需包含所有导电层及关键尺寸标注
2、独创性不足：建议在说明书中对比现有设计突出创新点
3、文件格式错误：TIFF格式需设置为300dpi分辨率
4、申请主体不符：境外申请人须委托国内代理机构
5、保密页遗漏：涉及商业秘密的图层需单独标记
需要申请集成电路布图设计专有权保护，可以联系凯东张工（189-2243-6484），制定差异化保护方案。
